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關于反滲透膜元件的儲存、再濕潤及有機物污染的清洗,你的操作規(guī)范嗎?
為了防止在存儲期間反滲透膜表面生物的生長和在后續(xù)操作中性能的降低,膜元件必須被保存在特制的溶液中。
(1)膜元件在出廠前都經過了通水測試,并使用1%的亞硫酸鈉溶液進行儲藏處理,然后用氧氣隔絕真空包裝;
(2)膜元件必須一直保持在濕潤狀態(tài)。即使是在為了確認同意包裝的數量而需暫時打開時也必須是在不損壞塑料袋的狀態(tài)下進行,此狀態(tài)應保存到使用時為止;
(3)膜元件最好保存在5~10℃的低溫下。在溫度超過10℃的環(huán)境中保存時要選擇通風良好的場所,并且避免陽光直射,保存溫度不要超過35℃;
(4)膜元件如果發(fā)生凍結就會發(fā)生物理破損,所以要采取保存措施,不要使之凍結;
(5)堆放膜元件時,包裝箱不要超過5層,并要確保紙箱保持干燥。
使用過的膜元件:
(1)膜元件必須一直保持在陰暗的場所,保存溫度不要超過35℃,并且要避免陽光直射;
(2)溫度在0℃以下時會有凍結的風險,所以要采取防凍結措施;
(3)為了防止膜元件在短期儲藏、運輸以及系統(tǒng)待機時微生物的滋長,需要用純水或反滲透產水配置濃度500~1,000ppm、pH3~6的亞硫酸鈉(食品級)保護液浸泡元件。通常,采用Na2S2O5,它與水反應生成亞硫酸氫鹽:Na2S2O5+H2O—2NaHSO3
(4)將膜元件放在保存溶液中浸泡大約1小時后,將膜元件從溶液中取出,并包裝在氧隔離袋中,將袋子密封并貼上標簽,標明包裝日期;
(5)需要保存的膜元件進行重新包裝之后,保存條件與新的膜元件的一致。
(6)保存液的濃度及pH都要保持在上述范圍,需要定期檢查,如果可能發(fā)生偏離上述范圍時,要再次調制保存液;
(7)無論在何種情況下進行保存時,都不能使膜處于干燥狀態(tài)。
(8)另外也可以采用濃度(質量百分比濃度)為0.2~0.3%甲醛溶液作為保存溶液。甲醛是比亞硫酸氫鈉更強的微生物殺傷劑,并且成分中不含有氧。
膜元件的再濕潤
經過使用之后的膜元件不慎干燥之后,可能會出現不可逆水通量的損失,請使用以下方式進行元件再濕潤:
1、在 50%乙醇水溶液或丙醇水溶液中浸泡 15分鐘;
2、將元件加壓到 10bar 并且將產水口關閉 30 分鐘,但應切記在進水壓力泄壓之前必須先打開產水出水閥門,該步驟可在元件裝入系統(tǒng)內進行,在這種情況下,當產水出口關閉時,進水端與濃水端的壓差不應大于 0.7bar,否則在濃水端就會出現產水背壓,引起膜片的損壞,最穩(wěn)妥的做法是,將產水出口閥門關小,使產水壓力接近濃水端壓力,這樣也就沒有必要關心壓降的限定問題了;
3、將元件浸泡在 1%HCl或 4%HNO3中 1~ 100小時,元件必須垂直浸泡,以便于排出元件內的空氣。
清洗有機物污染
下列清洗程序是專門針對存在有機物如腐植酸和富里酸、阻垢劑或油等污染膜系統(tǒng)的清洗,對于所有清洗過程,其清洗系統(tǒng)配置、pH和溫度范圍及建議清洗流量值完全相同,建議參考通用清洗導則的規(guī)定。
采取六個步驟清洗存在有機物污染的膜元件,但這六個清洗步驟需要重復進行,一次為高 pH 清洗液,另一次為低 pH 清洗液:
(1)按表 7-9配制清洗液:
(2)低流量輸入清洗液。
當清洗水泵混合清洗液,清洗液預熱以及用清洗液置換元件內的原水時,應按表 7-1 所列流量值的一半即按低流量和低壓力操作條件進行,所需的壓力僅需達到足以補充進水至濃水的壓力損失即可。壓力必須低到不會產生明顯的滲透產水。低壓能夠最大限度的減低污垢再次沉淀到膜表面,視情況而定,應排放部分濃水以防止清洗液的稀釋。
(3)循環(huán)。
當原水被置換掉后,濃水管路中就應該出現清洗液,可以讓清洗液循環(huán)返回清洗液水箱,循環(huán)清洗液 30 分鐘如果清洗液顏色仍發(fā)生變化,放掉清洗液重新按步驟 1)配制新的清洗液。
(4)浸泡。
停止清洗泵的運行,讓膜元件完全浸泡在清洗液中。元件浸泡時間 1~15 小時(浸泡過夜將更好)。為了維持浸泡過程的溫度,可采用很低的循環(huán)流量(約為表 7-1 所示流量的 10%),浸泡時間隨污染嚴重程度而定,對 輕度污染,浸泡1~2小時足夠。
(5)高流量水泵循環(huán)。
按表 7-1 所列的流量循環(huán) 30 分鐘。高流量能沖洗掉被清洗液清洗下來的污染物。如果污染嚴重,請采用高于表 7-1 所規(guī)定的 50%的流量將有助于清洗,在高流量條件下,將產生過高壓降的問題,單元件最大允許的壓降為 1bar(15psi),對多元件壓力容器最大允許壓降為 3.5bar(50psi),以先超出為限。
(6)沖洗。
經預處理的合格預處理出水可以用于沖洗清洗液,除非存在腐蝕問題(如靜止的海水將會腐蝕不銹鋼管道)。為了防止沉淀,最低沖洗溫度為 20℃,系統(tǒng)沖洗時間約 1小時。
(7)用 pH為2的 HCl溶液重復步驟 2)至6)。
(8)重新啟動系統(tǒng)。
必須等待元件和系統(tǒng)達到穩(wěn)定后,記錄系統(tǒng)重新啟動后的運行參數,清洗后系統(tǒng)性能恢復穩(wěn)定的時間取決于原先污染的程度。為了獲得最佳的性能,有時需要多次的清洗和浸泡步驟。
附加信息:
A、為了最大地提高清洗效率,清洗液的溫度必須高于 25℃,升高溫度有利于幫助清洗液從膜面上除去有機污染物。
B、有些有機物如油類非常難以清洗,為了除去它們,需試驗各種清洗浸泡時間以獲得最佳效率。此外,最有效的清洗液通常含有表面活性劑如 Na-SDS 或某些商品清洗劑含有表面活性劑及洗滌劑,它們能幫助除去油污染。請咨詢該化學品供應商。
C、如果有機污染源于預處理部分加入了過量絮凝劑,相反次序使用清洗劑(先用酸性清洗液后用堿性清洗液)更有效,為了確定合適的清洗液順序(先高 pH后低 pH或反之),請設法獲取系統(tǒng)污染物樣品,針對樣品先用堿性后用酸性溶液或反之,定性地確認何種順序更好。如果效果相當,通常先用高 pH清洗液清洗有機物更為合適。